純水在各工業(yè)部門、科研部門和技術(shù)領(lǐng)域中應(yīng)用廣泛。核物理、光纖和激光等研究 部門用純水作清洗劑或冷卻劑不;微量分析需用高純水配制標準溶液、清洗器皿和樣品;電子 工業(yè)如半導(dǎo)體、集成電路、顯象管和電子槍等需要高質(zhì)量的純水;醫(yī)藥工業(yè)用純水配制藥 劑、針劑和洗滌器皿。其他如造紙、紡織、食品加工都不同程度地使用純水制取某些技術(shù)要 求嚴格的產(chǎn)品.發(fā)電廠的鍋爐需要量純水二純水包括三個方面的水:除鹽水、純水設(shè)備和高純水設(shè)備。它們的水質(zhì)分別為含鹽量小于5,1和0.1Lmg/L(ppm )，電導(dǎo)率小于10,1和0.1uS/cm 

純水制造已較普遍采 用RO, MF和OF等膜分離技術(shù)。RO主要作用是預(yù)脫鹽，一般位 于工序的前面;超濾和微孔過濾主要作用是*除去水中微粒和微生物。 

用反滲透預(yù)脫鹽制造純水的主要流程有以下如圖:

上述系統(tǒng)中，PT-預(yù)處理設(shè)施;RO反滲透裝置;IEX一離子交換器，有一級復(fù)床除鹽和混床除鹽多種，以混床多見;一紫外線消毒妝;UV-紫外超濾;UF-精密過濾器，一般有0.22um,0.45um.1um三種規(guī)格.  :

為了保障純水水質(zhì)一不受外界影響，或在水質(zhì)要求高的情況下，可設(shè)封閉循環(huán)系統(tǒng)，如系 統(tǒng)(2). (3)和()6)。上述工藝制得的純水電阻率可達10-15兆歐CM